鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結方法研發(fā)和生產(chǎn)小尺寸平面靶，大尺寸靶是通過(guò)小尺寸拼接形成。 由于不是一體化（需要拼接）容易產(chǎn)生電弧放電，因此成膜質(zhì)量差，難以真實(shí)應用到高質(zhì)量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管，人們已經(jīng)采用真空熔煉生產(chǎn)空心鋁釹靶靶管，并通過(guò)銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產(chǎn)鋁釹旋轉靶材。由于銦焊料昂貴（占整個(gè)靶材成本50% )導致鋁釹 旋轉靶材的成本高；另一方面，由于是一節節靶管拼接而成存在節縫，在使用時(shí)容易形成電 弧放電，降低成膜質(zhì)量。此外，由于采用低熔點(diǎn)的銦焊接，靶材使用時(shí)發(fā)熱，容易導致脫靶現 象，還有鋁釹靶管焊接時(shí)熱收縮不容易控制，焊接難度大。 尺寸一體化鋁釹旋轉靶材及其制備方法，特別涉及一種大尺寸一體化鋁釹旋轉靶材的制備。真空熔煉和熱壓技術(shù)由于成分不均勻容易產(chǎn)生偏析，再加上靶材形狀受到限制，已經(jīng)不能滿(mǎn)足靶材成分均勻、大尺寸一體化的要求。濺射靶材生產(chǎn)過(guò)程屬于有色金屬物理加工，生產(chǎn)過(guò)程中不涉及有毒有害原料和有毒有害“三廢”，國家對濺射靶材行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售不存在特殊管制。采用超音速火焰(HVOF)和電弧噴涂技術(shù)制備金屬陶瓷/合金多層涂層。結果表明：涂層籌備為扁平層狀結構，涂層與基體、涂層與涂層之間結合緊密，涂層的磨損質(zhì)量損失與載荷成正比;磨料的硬度較高時(shí)，涂層的磨損質(zhì)量損失較大，與單層涂層相比,多層涂層在較高載荷作用下具有較好的抗磨損性能。 真空鍍膜機是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門(mén)，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門(mén)上預留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統、蒸發(fā)系統、薄膜卷繞系統、冷卻系統、控制系統等主要部分組成。當薄膜運行速度達到一定數值后，打開(kāi)擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動(dòng)速度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。 平面鋁釹靶/平面鉬鈮靶/平面鉬鈮靶