主營(yíng):濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材
所在地:
廣東 廣州
產(chǎn)品價(jià)格:
電議(大量采購價(jià)格電議)
最小起訂:
1
物流運費:
賣(mài)家承擔運費
發(fā)布時(shí)間:
2024-08-19
有效期至:
2025-09-13
產(chǎn)品詳細
真空鍍膜機的發(fā)展相當迅速,隨著(zhù)生產(chǎn)率的提高,生產(chǎn)費用大大降低,已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例,剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm,目前已達2253mm?;木硗驳木韽绞?000mm,卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜占整個(gè)周期的75%,操作只占25%。隨著(zhù)計測技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計算機的應用,卷繞式真空鍍膜機正向著(zhù)高度自動(dòng)化和高度可靠性的方向發(fā)展。真空鍍膜機真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2,可以在這個(gè)范圍內選擇,有的還可以鍍多層膜,滿(mǎn)足多種需要。日本提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。 濺射靶材行業(yè)迅速增長(cháng),市場(chǎng)集中度較高PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法。國內靶材生產(chǎn)企業(yè)發(fā)展迅速。濺射靶材為目前市場(chǎng)應用量較大的PVD鍍膜材料。濺射靶材市場(chǎng)未來(lái)穩定增長(cháng),2020年將達200億美元。濺射靶材主要應用在平板顯示、光伏電池、半導體等領(lǐng)域。半導體是對靶材組成、結構和性能要求較高的領(lǐng)域。電子靶材新材料:鉬鈀材、ITO靶材國產(chǎn)加速替代***。靶材主要用于PVD鍍膜,廣泛應用于顯示、芯片、存儲、光伏和工業(yè)等領(lǐng)域。按照2020年國內液晶面板產(chǎn)能,鉬靶材和ITO靶材需求分別為2,163噸和1,375噸,對應市場(chǎng)分別為9.12億元和27.36元。鉬靶材已經(jīng)國產(chǎn)并大規模替代。ITO則仍高度依賴(lài)***。靶材市場(chǎng)主要由日美公司所掌控,市場(chǎng)集中度較高。設備。 靶材的結構控制也與濺射沉積均勻性有密切關(guān)系。通常濺射靶材晶粒尺寸需要控制在200μm以下,而且晶粒尺寸越細小均勻,濺射鍍膜的厚度分布越均勻,濺射速率也越快。 鎳鉻硅化物作為優(yōu)良的接觸材料廣泛應用于low-e玻璃和半導體制造中,鎳鉻合金濺射靶材成為保證LOW-E和半導體器件性能和發(fā)展半導體技術(shù)的關(guān)鍵材料,其不斷增長(cháng)的需求量為中國金屬靶材制造業(yè)的發(fā)展提供了機遇和挑戰。 然而,這種充磁方法幾乎是辦不到的。作用。從設備所占市場(chǎng)份額看,AMAT的產(chǎn)品覆蓋了整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈,眾多產(chǎn)品市場(chǎng)占有率處于中高水平。包括PVD沉積設備(84.9%),P設備(66%),離子注入設備(73%)領(lǐng)域處于中高水平。此外,泛林的刻蝕機市場(chǎng)占有率達到52.7%。膜時(shí)提高襯底溫度以薄膜晶粒尺寸,優(yōu)化薄膜結晶性能。異質(zhì)結電池可雙面發(fā)電,高溫發(fā)電性能好,容易實(shí)現彎曲及柔性,結構,是美觀(guān)與的結合體。異質(zhì)結電池量產(chǎn)效率已經(jīng)24%,如果和鈣鈦礦電池疊層結合將有望實(shí)現30%以上的效率,還可大幅降低封裝成本。以異質(zhì)結為基礎的PV產(chǎn)品將更受用戶(hù)青睞。太陽(yáng)能電池為主,薄膜電池以及HIT占比較低,但是從目前的發(fā)展趨勢來(lái)看。錫。 硅的原子結構決定了硅原子具有一定的導電性,但由于硅晶體中沒(méi)有明顯的自由電子,因此導電率不及金屬,且隨溫度升高而增加,因而具有半導體性質(zhì)。微電子領(lǐng)域對靶材濺射薄膜的品質(zhì)和電阻要求是相當苛刻的。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀(guān)結構。電阻率是硅靶材產(chǎn)品的重要參數之一,除特殊用途外,絕大多數硅靶材電阻率要求越低越好,開(kāi)始應用時(shí)電阻率要求在0.1-0.5Ω·cm范圍內,逐漸降低至小于0.1Ω·cm,目前標準電阻率為0.02-0.04Ω·cm。為克服現有技術(shù)的不足,UVTM的研發(fā)人員開(kāi)發(fā)了一種超低阻硅靶材,在硅材料中摻入處理過(guò)的高硼含量母合金,使硅靶材的電阻率小于0.01Ω·cm。鐵網(wǎng)。 近年來(lái),中國大陸漸漸有些觸控面板廠(chǎng)商開(kāi)始采用了非日東的大陸本土ITO薄膜產(chǎn)品,這些ITO薄膜價(jià)格非常便宜,能夠滿(mǎn)足大陸觸控面板廠(chǎng)商的成本考量,即便會(huì )有觸控靈敏度較差的問(wèn)題,但只要由大陸觸控面板廠(chǎng)事先直接向客戶(hù)說(shuō)明,在客戶(hù)能夠接受的前提下,低價(jià)化的薄膜觸控面板仍有市場(chǎng)。其它非日東觸控ITO薄膜廠(chǎng)商近來(lái)接單量也大增,主要則是因為日東與蘋(píng)果合作(推測可能在技術(shù)、產(chǎn)能有全位合作)后,產(chǎn)能吃緊,進(jìn)而使對外供貨的數量銳減,許多觸控面板廠(chǎng)商無(wú)法向日東拿到足夠的ITO薄膜,為了滿(mǎn)足各自客戶(hù)需求、沖刺旺季出貨量,于是趕緊轉向其他非日東觸控ITO薄膜廠(chǎng)商進(jìn)料?;旧?,日東的ITO薄膜因為品質(zhì)穩定度高、價(jià)格是比較貴。如果非日東廠(chǎng)商的ITO薄膜、價(jià)格與日東沒(méi)差多少,等到日東產(chǎn)能又擴大對外釋出時(shí)。相對可能就會(huì )面臨較大的訂單流失壓力。 濺射靶材屬于新材料,是國家重點(diǎn)鼓勵、扶持的戰略性新興行業(yè)。按照《上市公司行業(yè)指引(2012 年修訂)》,金屬濺射靶材的生產(chǎn)可以歸類(lèi)為制造業(yè)下的其他制造業(yè),行業(yè)主管部門(mén)為工業(yè)和信息化部,其負責行業(yè)、產(chǎn)業(yè)政策制定及行業(yè)發(fā)展規劃,對行業(yè)的發(fā)展方向進(jìn)行宏觀(guān)調控。行業(yè)內的企業(yè)基于市場(chǎng)化方式自主安排生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)。
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