半導體芯片的需求市場(chǎng)比較龐大，集中在手機、PC、、AI、物聯(lián)網(wǎng)、電子汽車(chē)、5G等領(lǐng)域，龐大的市場(chǎng)還是手機、PC、可穿戴設備等電子消費產(chǎn)品。大部分國家電子產(chǎn)品消費市場(chǎng)都不景氣，且短期內很難迎來(lái)報復性增長(cháng)。中國的集成電子領(lǐng)域是一個(gè)穩步增長(cháng)的發(fā)展階段，中芯國際等優(yōu)勢企業(yè)像雨后春筍般涌現出來(lái)。微電子靶材這塊，該屬于第二梯隊，梯隊仍然是日本的公司和美國的霍尼爾等公司。在過(guò)去十幾年里，中國的微電子靶材從零開(kāi)始，能發(fā)展到目前的水平，應該說(shuō)成果是非常顯著(zhù)的。已經(jīng)不明顯了，國內的微電子靶材基本已經(jīng)與國際****企業(yè)處于同一競爭水平。原來(lái)談到痛點(diǎn)，可以說(shuō)渾身都是痛。大部分國家的微電子領(lǐng)域，年平均的發(fā)展速度大約為4%到5%。 ito靶材在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。在建筑玻璃方面的應用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在防護涂層中的應用：飛機發(fā)動(dòng)機的葉片、汽車(chē)鋼板、散熱片等。在硬質(zhì)涂層中的應用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。 芯片制造設備，半導體材料對于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國的半導體行業(yè)正處于成長(cháng)關(guān)鍵期，材料和技術(shù)仍依賴(lài)***，受到國際市場(chǎng)影響，圍繞半導體行業(yè)的焦慮在持續蔓延。2018年大部分國家半導體規模增速達12.4%。特別是存儲器市場(chǎng)。增速高達61.49%。一方面，存儲芯片需求旺盛，價(jià)格大幅上漲，另一方面，物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)電子、AI等新應用拉動(dòng)下游需求。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；、引線(xiàn)框架、樹(shù)脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設備領(lǐng)域。美國、日本、荷蘭依然占主要地位。國內的芯片制造與韓國和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠。 色彩一直是時(shí)尚設計的熱點(diǎn)，而手機配色也是F設計師們設計的重點(diǎn)之一。5G時(shí)候手機后蓋去金屬化，然而不管是玻璃、陶瓷、塑膠材質(zhì)的手機外觀(guān)結構件，F設計師們都會(huì )考慮酷炫紋理、金屬質(zhì)感、亮銀色、陶瓷光澤、漸變色等效果，而這些良好的裝飾效果都離不開(kāi)PVD真空鍍膜。金屬中框也需要和后蓋保持同樣炫麗的外觀(guān)，iPhoneXS金色及太空灰色系列不銹鋼中框就是采用的PVD色彩工藝。磁控真空鍍膜的源頭材料，又稱(chēng)濺射靶材。高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比。太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。 UVTM的金屬靶材作為應用于手機玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品，已獲得多家手機玻璃蓋板生產(chǎn)客戶(hù)的認可，并已實(shí)現批量供貨。高純金屬靶材。 鎳靶、Ni、鈦靶、Ti靶、Zn、、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。 靶材晶粒尺寸和結晶方向的影響同成分的靶材,晶粒尺寸較小的靶材比晶粒尺寸大的沉積速率快,這主要是由于晶界在濺射過(guò)程中更容易受到攻擊,晶界越多,成膜就越快。4.靶材純度和材質(zhì)均勻性的影響濺射靶材的純度對所鍍薄膜的性能影響很大。當表面清潔的玻璃進(jìn)入高真空鍍膜腔室內,如果靶材純度不夠,在電場(chǎng)及磁場(chǎng)的作用下,靶材中的雜質(zhì)顆粒在濺射過(guò)程中會(huì )附著(zhù)到玻璃表面,造成部分的膜層不牢固出現脫膜現象。 色彩一直是時(shí)尚設計的熱點(diǎn)，而手機配色也是F設計師們設計的重點(diǎn)之一。5G時(shí)候手機后蓋去金屬化，然而不管是玻璃、陶瓷、塑膠材質(zhì)的手機外觀(guān)結構件，F設計師們都會(huì )考慮酷炫紋理、金屬質(zhì)感、亮銀色、陶瓷光澤、漸變色等效果，而這些良好的裝飾效果都離不開(kāi)PVD真空鍍膜。金屬中框也需要和后蓋保持同樣炫麗的外觀(guān)，iPhoneXS金色及太空灰色系列不銹鋼中框就是采用的PVD色彩工藝。磁控真空鍍膜的源頭材料，又稱(chēng)濺射靶材。高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比。太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。 UVTM的金屬靶材作為應用于手機玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品，已獲得多家手機玻璃蓋板生產(chǎn)客戶(hù)的認可，并已實(shí)現批量供貨。 ito靶材在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。在建筑玻璃方面的應用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在防護涂層中的應用：飛機發(fā)動(dòng)機的葉片、汽車(chē)鋼板、散熱片等。在硬質(zhì)涂層中的應用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。靶材晶粒尺寸和結晶方向的影響同成分的靶材,晶粒尺寸較小的靶材比晶粒尺寸大的沉積速率快,這主要是由于晶界在濺射過(guò)程中更容易受到攻擊,晶界越多,成膜就越快。4.靶材純度和材質(zhì)均勻性的影響濺射靶材的純度對所鍍薄膜的性能影響很大。當表面清潔的玻璃進(jìn)入高真空鍍膜腔室內,如果靶材純度不夠,在電場(chǎng)及磁場(chǎng)的作用下,靶材中的雜質(zhì)顆粒在濺射過(guò)程中會(huì )附著(zhù)到玻璃表面,造成部分的膜層不牢固出現脫膜現象。