半導體芯片的需求市場(chǎng)比較龐大，集中在手機、PC、、AI、物聯(lián)網(wǎng)、電子汽車(chē)、5G等領(lǐng)域，龐大的市場(chǎng)還是手機、PC、可穿戴設備等電子消費產(chǎn)品。但是在整體經(jīng)濟環(huán)境低迷的情況下，大部分國家電子產(chǎn)品消費市場(chǎng)都不景氣，且短期內很難迎來(lái)報復性增長(cháng)。需求端疲軟成為半導體上游產(chǎn)業(yè)的嚴峻挑戰。中國信通院發(fā)布的2020年2月國內手機出貨量數據顯示，2月出貨量為638.4萬(wàn)部，同比下降了56%。根據整理的數據顯示，半導體行業(yè)2018年海外業(yè)務(wù)收入502億，占半導體行業(yè)總營(yíng)收1130億元的約44.48%。海外業(yè)務(wù)營(yíng)收超過(guò)10億的約9家，其中長(cháng)電科技2018年營(yíng)收高達198.06億元，兆易創(chuàng )新2018年、2019年海外營(yíng)收占比分別達到86.73%、82.39%。 UVTM嚴格控制生產(chǎn)，對材料成分、密度、微量元素分析、表面光潔度等進(jìn)行科學(xué)管控，生產(chǎn)過(guò)程中不斷改進(jìn)技術(shù)、研發(fā)新產(chǎn)品，保證產(chǎn)品的高合格率及供貨穩定性。自公司成立以來(lái)，蒂姆新材料產(chǎn)品廣泛應用于LED半導體芯片、光學(xué)鏡頭鍍膜、液晶顯示器、裝飾和功能鍍膜、太陽(yáng)能光伏、數據儲存等行業(yè)，質(zhì)量達到先進(jìn)水平，受到廣大用戶(hù)好評。金屬鋁靶材Al，金屬銻靶材，金屬鉍靶材Bi，金屬鎘靶材Cd，硼靶材B，碳靶材C，石墨靶材C，稀土金屬鈰靶材Ce，金屬鉻靶材Cr，金屬鈷靶材Co，金屬銅靶材Cu，稀土金屬鏑靶材Dy，稀土金屬鉺靶材Er，稀土金屬銪靶材Eu，稀土金屬釓靶材Gd，鍺靶材Ge，黃金靶材Au，金屬鉿靶材Hf，稀土金屬鈥靶材Ho，金屬銦靶材In，金屬銥靶材Ir，金屬鐵靶材Fe，金屬鑭靶材La，金屬镥靶材Lu，金屬鎂靶材Mg，金屬錳靶材Mn，難熔金屬鉬靶材Mo，稀土金屬釹靶材Nd，金屬鎳靶材Ni，貨品銀靶材Ag，金屬硅靶材Si。                                       在半導體濺射靶材方面，國內與國際差距主要在濺射靶材上游材料（非常高純原材料方面）與服務(wù)于集成電路先進(jìn)制程的新產(chǎn)品。濺射鍍膜技術(shù)起源于國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發(fā)展于國外。國外靶材公司，在靶材研發(fā)生產(chǎn)方面已有幾十年的積淀。同時(shí)，隨著(zhù)半導體工業(yè)技術(shù)創(chuàng )新的不斷深化，以美國、日本和德國為代表的半導體廠(chǎng)商加強對上游原材料的創(chuàng )新力度，從而更大限度地保證半導體產(chǎn)品的技術(shù)先進(jìn)性。當前中國靶材制造商在部分靶材制造工藝上已達到了國際先進(jìn)水平。產(chǎn)品質(zhì)量獲得國內外下游廠(chǎng)商的認可；同時(shí)通過(guò)在下游企業(yè)工廠(chǎng)附近建廠(chǎng)。靶材價(jià)格可能會(huì )比國外廠(chǎng)商低10%-15%，替代必要性和戰略意義明顯。 日韓和在大部分國家半導體產(chǎn)業(yè)鏈中有重要地位。元器件及材料的生產(chǎn)對于貨品靶材面板顯示產(chǎn)業(yè)的基礎環(huán)節，所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材，其性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關(guān)。光學(xué)器件應用范圍非常廣泛，主要包括智能手機、車(chē)載鏡頭、安防監控設備、數碼相機、光碟機、投影機等，元器件及光學(xué)鏡頭。我國濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場(chǎng)影響力相對有限，尤其在半導體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域，濺射靶材市場(chǎng)依然被美國、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠(chǎng)商所控制或壟斷。隨著(zhù)濺射靶材朝著(zhù)更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展。不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng )新。靶材產(chǎn)品包括鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等。 尤特新材料（UVTM）是國家高新技術(shù)企業(yè)，公司成立于二00三年，專(zhuān)業(yè)從事信息、鍍膜、太陽(yáng)能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國、日本、引進(jìn)先進(jìn)的生產(chǎn)、檢測設備和專(zhuān)業(yè)人才。目前，靶材的國產(chǎn)化進(jìn)程面臨著(zhù)高等技術(shù)封鎖難題。且技術(shù)難以實(shí)現系統打破，過(guò)程還需要多個(gè)學(xué)科的知識和經(jīng)驗的同時(shí)積累，產(chǎn)業(yè)需要協(xié)同發(fā)展。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話(huà)，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。濺射：即集成電路制造過(guò)程中要反復用到的工藝；靶材：就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么，不同應用領(lǐng)域，對材料的選擇及性能要求也有一定差異。 大尺寸高純靶材市場(chǎng)被日韓企業(yè)占據。高純?yōu)R射靶材上游的高純金屬市場(chǎng)主要被日韓企業(yè)壟斷，目前高純?yōu)R射靶材的主要供應商為日本三井、東曹、日立、三星、康寧，國內企業(yè)在大尺寸高純靶材的生產(chǎn)能力與外資相比仍有差距。ITO、IWO靶材已逐步實(shí)現國產(chǎn)化，國產(chǎn)化有望將電池的靶材成本降低57%。目前國內先導、映日等企業(yè)ITO靶材已較為成熟，先導通過(guò)收購優(yōu)美科國際公司，其靶材生產(chǎn)的純度、密度大幅提升，長(cháng)度可達4000毫米，目前SCOT靶材正在研發(fā)，IWO壹納光電已實(shí)現國產(chǎn)。以IWO靶材為例，在同樣是4-4.5g/cm的密度下，***靶材價(jià)格為3200元/kg，對應電池靶材成本0.6-0.7元/片，國產(chǎn)靶材價(jià)格約2000元/kg，對應電池靶材成本0.2-0.3元/片，采用國產(chǎn)靶材電池單片成本可降低57%。UVTM嚴格控制生產(chǎn)，對材料成分、密度、微量元素分析、表面光潔度等進(jìn)行科學(xué)管控，生產(chǎn)過(guò)程中不斷改進(jìn)技術(shù)、研發(fā)新產(chǎn)品，保證產(chǎn)品的高合格率及供貨穩定性。自公司成立以來(lái)，蒂姆新材料產(chǎn)品廣泛應用于LED半導體芯片、光學(xué)鏡頭鍍膜、液晶顯示器、裝飾和功能鍍膜、太陽(yáng)能光伏、數據儲存等行業(yè)，質(zhì)量達到先進(jìn)水平，受到廣大用戶(hù)好評。