產(chǎn)品特點(diǎn): 該機型是在電阻蒸發(fā)鍍膜機的基礎上，配備磁控圓柱和磁控平面靶。設備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層，也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶，可以進(jìn)行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等，可以準確的控制膜厚，是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機配件等材料的優(yōu)選機器，一機多用是該機型的價(jià)值所在。   技術(shù)參數: 真空室箱體：主要規格有1000*1200mm，1200*1500mm、1800*1950箱式結構、雙開(kāi)門(mén)，并可根據用戶(hù)產(chǎn)品的要求定做非標準產(chǎn)品。 夾具方式：采用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在15轉/分鐘可調，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進(jìn)氣穩定，反映速度快，可以配加自動(dòng)壓強控制。 靶:除電阻蒸發(fā)外，另配置圓柱、平面靶，靶材根據實(shí)際要求選擇。 電源：配備直流電源，高壓轟擊電源，及蒸發(fā)大電流電源。 抽真空參數：從大氣抽至5*10??Pa≤8min 極限真空度8*10?4Pa 抽氣系統：主要配備蘭州擴散泵，羅次泵，旋片泵，按照真空室大小確定。 控制系統：可以選用手動(dòng)控制；計算機控制，觸摸屏面板控制。 其他：配備電熱加熱系統，可以選配擴散泵自動(dòng)油溫控制裝置。冷水機組等等