主營(yíng):磁控濺射靶材,蒸發(fā)鍍膜材料,高純金屬材料
所在地:
北京 北京
產(chǎn)品價(jià)格:
電議(大量采購價(jià)格電議)
最小起訂:
1
物流運費:
賣(mài)家承擔運費
發(fā)布時(shí)間:
2024-06-21
有效期至:
2024-12-21
產(chǎn)品詳細
氧化銅靶材由于其特性,可以用于多種應用,包括但不限于: 1. 集成電路(IC)制造:在IC制造中,氧化銅靶材可以用于形成導電路徑、絕緣層和各種功能性薄膜。 2. 光伏產(chǎn)業(yè):氧化銅靶材作為太陽(yáng)能電池的核心材料,用于捕獲太陽(yáng)光并轉化為電能。 3. 顯示技術(shù):包括液晶顯示(LCD)和有機發(fā)光二極管(OLED)技術(shù),靶材用于制造顯示屏的導電層和發(fā)光層。 4. 存儲技術(shù):在硬盤(pán)驅動(dòng)器(HDD)和固態(tài)驅動(dòng)器(SSD)等數據存儲設備中,靶材用于形成磁性薄膜和存儲介質(zhì)。
北京金源新材科技有限公司
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