【中玻網(wǎng)】熔融的玻璃經(jīng)流道、流槽進(jìn)入錫槽，在錫槽中成形后由過(guò)渡輥臺進(jìn)入退火窯，在這一過(guò)程中玻璃液（板）要與閘板、唇磚、錫液、拉邊機、保護氣體過(guò)渡輥臺等直接接觸，同時(shí)與錫槽水包、頂蓋磚、底磚等密切相關(guān)，很容易形成與成形相關(guān)的各種缺點(diǎn)，包括錫石、錫點(diǎn)（頂錫）、光畸變點(diǎn)（脫落物）、粘錫、虹彩、霧點(diǎn)、氣泡等，除氣泡之外的可統稱(chēng)為錫缺點(diǎn)，這些成形缺點(diǎn)嚴重制約著(zhù)玻璃的質(zhì)量等級與加工性能。本文對其成因及防止措施作些探討，以期有助于改善浮法玻璃質(zhì)量。

1錫缺點(diǎn)的成因分析 

1.1錫與錫槽中錫化合物的性質(zhì) 

純凈的錫的熔點(diǎn)是232℃，沸點(diǎn)為2271℃，在600～1050℃的溫度范圍內錫具有較低的熔點(diǎn)和較高的沸點(diǎn)，較低的飽和蒸汽壓，同時(shí)還具有非常大的密度和容易還原的性質(zhì)，以及錫液與玻璃液之間具有非常大的浸潤角（175°）幾乎完全不浸潤等性質(zhì)，錫用來(lái)作為玻璃成形的良好載體。 

氧化錫SnO2，密度6.7～7.0g/cm3，熔點(diǎn)2000℃，高溫時(shí)的蒸汽壓非常小，不溶于錫液，正常生產(chǎn)時(shí)在錫槽的溫度條件下為固體，往往以浮渣形式出現在低溫區的液面上，通常浮渣都聚集在靠近出口端。如果氧化嚴重，浮渣會(huì )延伸很長(cháng)，容易形成玻璃板下表面劃傷。 

氧化亞錫SnO，熔點(diǎn)為1040℃，沸點(diǎn)為1425℃，固體為藍黑色粉末，能溶解于錫液中，SnO的分子一般為其聚合物（SnO）x形式。在中性氣氛中SnO只有在1040℃以上才是穩定的，1040℃以下會(huì )發(fā)生分解反應。在錫槽的還原性氣氛中SnO可以存在，它往往溶解于錫液中和以蒸汽形式存在于氣氛中。 

硫化亞錫SnS，密度5.27g/cm3，固體為藍色晶體，熔點(diǎn)為865℃，沸點(diǎn)為1280℃，具有非常大的蒸汽壓，800℃時(shí)為81.3Pa，正常生產(chǎn)時(shí)，在高溫區易揮發(fā)進(jìn)入氣氛，低溫區易凝聚滴落。 

1.2錫槽中的硫、氧污染循環(huán) 

氧的污染主要來(lái)源于氣氛中的微量氧和水蒸汽以及從錫槽縫隙漏入和擴散的氧。在錫槽工況下，它們使錫氧化成SnO和SnO2浮渣，SnO溶解于錫液和揮發(fā)進(jìn)入氣氛，并在頂蓋、水包處冷凝、聚集而落到玻璃表面。另外，玻璃本身也是一個(gè)污染源，玻璃中的氧部分進(jìn)入錫液，同樣會(huì )使錫氧化，玻璃的上表面會(huì )有水蒸汽進(jìn)入氣氛，增加了氣氛中的氧化氣氛。 

硫的污染在使用氮、氫保護氣體時(shí)主要由玻璃帶入，一是來(lái)源于玻璃組分及熔窯氣氛，再者來(lái)源于錫槽出口處的二氧化硫處理玻璃下表面技術(shù)。在錫槽工況下，玻璃的上表面以H2S形式釋放進(jìn)入氣氛，在玻璃下表面硫進(jìn)入錫液被氧化成SnS，氣氛中的H2S與錫反應生成SnS，這些SnS溶于錫液并部分揮發(fā)進(jìn)入氣氛中，SnS蒸汽同樣使玻璃產(chǎn)生錫缺點(diǎn)。這是硫的污染循環(huán)，其中主要化學(xué)反應為： 

與氧、硫污染相關(guān)的化學(xué)反應在錫槽的不同溫度區域保持著(zhù)動(dòng)態(tài)平衡，平 衡狀態(tài)與保護氣體的組成和錫槽工況密切相關(guān)。氧化組分高，則還原組分就低，氧化反應激烈；還原組分高，則氧化組分就低，可避免或降低錫的氧化。