氧化鈰在拋光上的前景

信息和光電子領(lǐng)域的高速發(fā)展促進(jìn)了化學(xué)機械拋光 (CMP)技術(shù)的不斷更新。除了設備和材料外 , 非常高精度表面的獲取更有賴(lài)于研磨粒子的設計與工業(yè)化生產(chǎn),以及相應的拋光漿料的調配。而且隨著(zhù)表面加工精度和效率要求的不斷提高，對拋光材料的要求也越來(lái)越高。二氧化鈰在微電子器件和準確光學(xué)元器件表面準確加工中已經(jīng)得到廣泛應用。

氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）拋光粉因具有切削能力強，拋光效率高，拋光精度高，拋光質(zhì)量好，操作環(huán)境清潔，污染小，使用壽命長(cháng)等優(yōu)點(diǎn)，而在光學(xué)準確拋光和CMP等領(lǐng)域占有較其重要的地位。

氧化是基本性質(zhì)：

二氧化鈰，又稱(chēng)氧化鈰，為鈰的氧化物，此時(shí)鈰的化合價(jià)為+4價(jià)，化學(xué)式為CeO2。純品為白色重質(zhì)粉末或立方體結晶，不純品為淺顏色甚至粉紅色至紅棕色粉末(因含有微量鑭、鐠等)。常溫、常壓下，二氧化鈰是鈰的穩定氧化物。鈰還能形成+3價(jià)的Ce2O3，其不穩定，會(huì )和O2生成穩定的CeO2。氧化鈰微溶于水、堿和酸。密度7.132 g/cm3，熔點(diǎn)2600℃，沸點(diǎn)3500℃ 。