科研實(shí)驗專(zhuān)用碳化硼靶材B4C磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產(chǎn)品介紹       碳化硼（B4C），別名黑鉆石，堅硬黑色有光澤晶體，具有密度低、強度大、高溫穩定性以及化學(xué)穩定性好的特點(diǎn)；硬度比工業(yè)金剛石低，但比碳化硅高；不受熱氟化氫和硝酸的侵蝕，溶于熔化的堿中，不溶于水和酸，是已知堅硬的三種材料之一（其他兩種為金剛石、立方相氮化硼），用于坦克車(chē)的裝甲、避彈衣和很多工業(yè)應用品中；碳化硼可以吸收大量的中子而不會(huì )形成任何放射性同位素，因此它在核能發(fā)電場(chǎng)里它是很理想的中子吸收劑；碳化硼制造容易、成本低廉，因而使用更加廣泛，在某些地方可以取代價(jià)格昂貴的金剛石、常見(jiàn)在磨削、研磨、鉆孔等方面的應用。 產(chǎn)品參數 中文名碳化硼            分子式B4C 相對分子質(zhì)量 55.26      沸點(diǎn) 大于3500℃ 熔點(diǎn) 2350℃             密度 2.52g/cm3 支持靶材定制，請提供靶材產(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會(huì )盡快為您報價(jià)??！  服務(wù)項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊?，質(zhì)量保證，售后無(wú)憂(yōu)！ 產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝 適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備  質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。  加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫        陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導熱性差，連續長(cháng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！        我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無(wú)氧銅作為背靶。        注意：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì )導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！        建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2。