多弧離子鍍膜設備是一種、無(wú)害、無(wú)污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。 真空電弧離子的原理是基于冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且還能在非金屬制品表上進(jìn)行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短時(shí)間內完成全部加工工藝過(guò)程，是一種多功能鍍膜設備。廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，陶瓷、高爾夫、制表，酒店用品、衛生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領(lǐng)域。   本公司可根據用戶(hù)要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶(hù)要求進(jìn)行設計配置。