多功能離子鍍膜設備： 該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結合線(xiàn)性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年專(zhuān)注研發(fā)，通過(guò)特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，并開(kāi)發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動(dòng)控制系統，使鍍膜膜層附著(zhù)力致密度、從復度一致性好等特點(diǎn)，解決了人工手動(dòng)操作復雜性、膜層顏色不一致等問(wèn)題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類(lèi)金屬石膜（DLC）。 1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場(chǎng)擴展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。 2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場(chǎng)結構鍍膜時(shí)可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴散，又具有離子束輔助沉積的特點(diǎn)。   型號JTZ-800 JTL-1000 JTL-1250 真空室尺寸￠800×1000MM ￠1000×1000MM ￠1250×1100MM 鍍膜方式及主要配置 六個(gè)多弧源+一套圓柱靶+一套平面矩形磁控濺射靶 八個(gè)多弧源+一對孿生（中頻）磁控濺射靶+一套平面矩形磁控濺射靶 十二個(gè)多弧源+一對孿生（中頻）磁控濺射靶+兩套平面矩形磁控濺射靶 鍍膜方式及主要配置 電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線(xiàn)性離化源 工藝氣體控制 質(zhì)量流量計+電磁陶瓷閥 真空室結構 立式側（單）開(kāi)門(mén)結構，后置抽氣系統，雙層水冷 真空系統組成 分子泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA） 工件烘烤溫度 常溫到500度可調可控(PID控溫),輻射加熱 工件運動(dòng)方式 公自轉變頻調速,0~20轉/分 測量方式 數顯復合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA 控制方式 手動(dòng)/自動(dòng)/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選 備注 以上設備可按客戶(hù)實(shí)際及特殊工藝要求設計訂做