多弧離子鍍膜設備是一種、無(wú)害、無(wú)污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。 真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進(jìn)行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短的時(shí)間內完成全部加工工藝過(guò)程，是一種多功能鍍膜設備。廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，汽車(chē)輪轂、陶瓷、高爾夫、制表、酒店用品、衛生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領(lǐng)域。   型號LH-800 LH-1000 LH-1250 真空室尺寸￠800×1000MM ￠1000×1000MM ￠1250×1100MM 鍍膜方式及主要配置 八個(gè)多弧靶 十個(gè)多弧靶 十二個(gè)多弧源 鍍膜方式及主要配置 電弧電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源 工藝氣體控制 質(zhì)量流量計+電磁陶瓷閥 真空室結構 立式側（單）開(kāi)門(mén)結構，后置抽氣系統，雙層水冷 真空系統組成 分子泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA），擴散泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA） 工件烘烤溫度 常溫到350度可調可控(PID控溫),輻射加熱 工件運動(dòng)方式 公自轉變頻調速,0~20轉/分 測量方式 數顯復合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA 控制方式 手動(dòng)/自動(dòng)/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選 備注 以上設備可按客戶(hù)實(shí)際及特殊工藝要求設計訂做